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　奈米，微米壓 印(Imprint)設備及電子束微影(E-beam Lithography)　Obducat 瑞典
2.5 " Imprint(最大工作面積2.5吋型)
奈米及微米壓印設備
4 ~ 6" Imprint (最大工作面積4~6吋型)
奈米及微米壓印設備
EBR-200 LaB6
E-beam lithography電子束微影(使用Lantunium Hexaborite燈絲)
EBR-200 TFE
E-beam lithography電子束微影(使用Thermal Field Emission燈絲)

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